蒸发源

        E-Beam-1是单口的E-Beam（电子束）蒸发源。这款专业设计的电子束蒸发源能够实现对目标材料的精准局部加热，突破了传统K-Cell蒸发源的温度限制。即使面对极高熔点的金属材料（比如Mo、Ta、 W等），也能确保高效且可控的蒸发过程，从而获得纯净度极高的薄膜层。配备先进的PID控制器，用户可以根据实际需求选择恒定功率(constant power)模式或恒定束流(constant flux)模式进行精确调控，确保薄膜沉积速率的一致性和稳定性。