蒸发源

       K-Cell-1是上海洛克斯蒂科技自主研发推出的一款单口K-Cell蒸发源，专为满足现代高科技材料研发和生产中对薄膜精确、稳定沉积的严苛要求而设计。其温度范围是50-1200 ℃，无论是有机分子还是部分高纯无机材料（如铜、金等），均可实现高效、高质量的薄膜沉积。K-Cell蒸发源内置先进的PID温度控制系统，具备±0.1℃的超精密温度稳定性，确保每一次蒸发过程都在严格的温度条件下进行，从而保证薄膜厚度的一致性和均匀性，使科研工作者和工程师们在各种复杂应用中获得理想的薄膜性质。为了满足多元化的实验与生产需求，该蒸发源配备了30段可编程温度曲线功能，用户可以根据不同的薄膜材料特性和结构设计自由设定升降温方案。无论是快速热处理、阶梯式多层沉积，还是复杂的梯度薄膜制备，K-Cell蒸发源都能轻松应对，提供无可比拟的工艺灵活性。