真空系统及部件

        磁控溅射源 （Magnetron Source），用于磁控溅射（一种PVD薄膜沉积技术）。适用靶材尺寸为2 inch （MS2）或者 3 inch (MS3)。安装法兰为CF63 或者 CF100 。根据磁体不同，又可分为type B和type C。包含气动挡板模块、倾斜模块（tilt-module：+45° / -10°）等。靶材厚度需要根据具体配置确定。太多参数可能会让您毫无头绪，请直接联系我们，告诉我们您的薄膜生长需求和设备相关信息，我们将据此为您推荐最适合您的配置。