UHV Systems & Components
IS 40F1是IS 40C1离子源的升级款，包含了束流聚焦功能。其功能也是用于样品表面溅射清洁。通过调节聚焦能量···
IS 40E1是一款扫描离子源。可以在一定区域内对样品表面进行扫描式溅射（工作距离23 mm时，扫描范围为10 mm···
磁控溅射源 （Magnetron Source），用于磁控溅射（一种PVD薄膜沉积技术）。适用靶材尺寸为2 inch （MS2）或···
离子源（Ion Source），顾名思义，发射离子的。俗称离子枪。又因通常用Ar作为工作气体，发射出Ar+，所以也···
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